社是(基本理念)
株式会社パルスパワー技術研究所は、パルスパワーという極限状態を安全に発生し、制御する技術を提供することにより、科学技術の発展を支援し、地球環境と全ての人々の暮らしを豊かにすることに貢献します。
経営理念
- 大学、国立研究所などの研究機関と連携し、我が国のパルスパワー技術の維持・発展・継承を組織的に行います。
- 常に技術の発展・向上に研鑽し、新しい社会ニーズの創出に努めます。
- 海外の技術情報の収集に努め、常に世界のトップの技術レベルを目指します。
代表挨拶Message
私は、長岡技術科学大学大学院で八井浄教授に師事し、軽イオンビーム慣性核融合研究を学びました。
その後、日本原子力研究開発機構での実務経験を経て、電子機器メーカーに入社し、国内の多くの研究機関に、極めて高度な開発製品を多数納入し日本の科学技術の発展に多少なりとも貢献してこれた事に対し、深く感謝をしております。
2006年には文部科学大臣表彰科学技術賞を高エネルギー加速器研究機構の高山健教授方と共同で受賞し、2008年には日本の国家基幹技術であるX-FELの性能を左右する重要製品の開発にも関わることができました。
今後は、40年間の高電圧・大電流パルス電源設計・製造の経験と実績に基づく、最先端のパルスパワー技術に特化し、更にこまわりの利いた技術サービスを提供していくことで、更に日本の科学技術の発展に引き続き貢献したいと考えております。
又、パルスパワー技術の研究に携わる大学、研究所と連携し、我が国でパルスパワー技術の維持、発展、継承を組織的に果たす中枢的機関となることを目指します。
株式会社パルスパワー技術研究所 代表取締役
経歴一覧を見る
※番号のついた項目は共同発表論文等のタイトルを示します。
1979年3月 | 函館工業高等専門学校電気工学科卒業 |
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1981年3月 |
長岡技術科学大学電気・電子システム工学課程卒業 研究テーマは超電導工学。原研核融合超電導研究室で半年間実習を行う。 1. Mechanical properties of the Japanese LCT coil conductor |
1983年3月 |
長岡技術科学大学大学院修士課程電子機器工学専攻修了 研究テーマは慣性核融合用の軽イオンビームの追加速 2. Inductive postacceleration of charge-and current-neutralized,Intense pulsed ion beam |
1983年4月 | 日本コンデンサ工業株式会社入社 草津工場に配属(現ニチコン草津株式会社) |
1985年 |
国内最大の慣性核融合用軽イオンビーム発生装置を完成(長岡技術科学大学) 3. Development of an Intense Light ion Beam Generator “ETIGO-II” |
1986年 |
マイクロ波自由電子レーザー用超高速誘導型加速器を完成(宇宙航空研究開発機構) 4. 高速応答特性をもつ誘導型直線加速器 |
1991年 |
磁気スイッチと高速パルストランスを使用したXバンドモジュレータ完成(高エネルギー加速器研究機構) 5. X band klystron modulator with a pulse forming line and magnetic switch |
1992年 |
Xバンド自由電子レーザー用完全固体化高繰り返し高電圧パルス電源を完成(高エネルギー加速器研究機構) 6. Solid-state pulsed power supplies to drive an induction accelerator for an X-band microwave free electron laser |
1996年 |
半導体スイッチを使用したNBI用加速電源を完成(大阪大学) 7. 高出力イオン源用大電力半導体スイッチによるコンデンサー駆動電源の開発 |
1996年 |
国内最高の大強度電子ビーム用8MeV誘導加速器を完成(長岡技術科学大学) 8. Development of the high energy induction accelerator “ETIGO-III” |
1999年 |
KEK-B用キッカー電源、アボートキッカー電源を完成(高エネルギー加速器研究機構) 9. KEKB injection kicker magnet system 10. Abort systems for the KEKB |
2000年 |
高繰り返し型大強度電子ビーム発生用高電圧パルス電源を完成 11. Repetitive Pulsed-Power Generator ” ETIGO-IV” |
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2001年 |
KEK-B用キッカー電源を半導体化に成功(高エネルギー加速器研究機構)(長岡技術科学大学) 12. High-power Switch with SI-thyristors for the power supply of the KEKB injection kicker Magnet |
2001年 |
エキシマレーザー用高電圧固体化パルス電源を完成 13. High Repetition Rate, Low Jitter Pulsed Power Generator for Excimer Laser Applications |
2002年 |
EUV用高繰り返し固体化高電圧パルス電源を完成(長岡技術科学大学) 14. Development of Repetitive Pulsed High-Current Generator for EUV Applications |
2003年 |
3次元イオン注入用高繰り返し半導体スイッチ高電圧パルス電源を完成(理化学研究所) 15. 高真空下における、三次元イオン注入によるDLC膜の生成 |
2003年 |
SCSS用密閉型Cバンドモジュレータ1号機完成(理化学研究所) 16. High Power Test of the Compact, Oil-filled Modulator for the C-band Klystron |
2006年 |
FETスイッチを使用した大容量超高繰り返し1MHz高電圧インバータ電源を完成(高エネルギー加速器研究機構) 文部科学大臣表彰科学技術賞を受賞 17. First observation of the acceleration of a single bunch by using the induction dveice in the KEK Proton Synchrotron |
2007年 |
FETとSIサイリスタを使用した100kHz高繰り返しパルス四極電源を完成(高エネルギー加速器研究機構) 18. High-power Switch with SI-thyristor for the Power Supply of Very High Repetition Rate Pulsed Quadrupole Magnet |
2009年3月 | ニチコン草津株式会社を退職 |
2009年5月 | 株式会社パルスパワー技術研究所を設立 |
会社概要Company profile
本社
会社名 | 株式会社パルスパワー技術研究所 Pulsed Power Japan laboratory ltd.(略称:PPJ) |
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設立 | 平成21年5月8日(金) |
資本金 | 1000万円 (単体) |
従業員数 | 19人 |
代表者 | 代表取締役 徳地 明 |
事業内容 |
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本社 |
〒525-0032 滋賀県草津市大路二丁目3番16-103号 |
草津ファクトリー |
〒525-0065 滋賀県草津市橋岡町61 JR南草津駅西口より車7分、徒歩20分 |
電話番号 | 077-598-1470 |
FAX番号 | 077-598-1490 |
info@myppj.com |
2024年 11月現在
工場
称名 | 株式会社パルスパワー技術研究所 テクノファクトリー |
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稼動開始日 | 令和5年6月16日 |
住所 |
〒525-0058 滋賀県草津市野路東 7 丁目3-46 滋賀県立テクノファクトリー 11号棟 JR南草津駅東口より車10分、徒歩25分 |
TEL/FAX | 077-558-8810 |
2024年 11月現在